光刻技术,精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻
信息分类：生命科学资讯 作者:YIYI发布
光刻技术,精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻
光刻技术起源予商业上的照相制版术，该技术本
身则用于制备精密蚀刻的“印刷电路”和化学蚀刻中的精密的金
属孔径掩模。将二氧化硅薄层作为扩散掩蔽的平面工艺问世
后，把这一工艺用于控制扩散区域的尺寸，从而导致了集成电路
技术的发展。
如果硅片贮存时间过长或贮存不当，其表面沾污或变脏时，
就进行预清洗。这是为硅片表面涂胶作准备。
涂胶操作是将光刻胶以均匀的薄层涂覆在硅片表面的二氧
化硅上，并应将由工艺所引起的缺陷减至最少。涂层需经烘干
处理，以蒸发溶剂并为以后的工序坚膜。在紧接着预清洗后的
全部操作步骤中应使用层流净化台，且操作要谨慎，以防硅片受
尘掺和烟雾的沾污。
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